干法激光粒度分析儀利用激光散射原理來測量顆粒的粒度分布。當激光束照射到顆粒表面時，會發(fā)生散射現(xiàn)象，散射光的強度和分布與顆粒的大小、形狀及折射率等參數(shù)有關。通過測量散射光的分布，可以反推出顆粒的粒度分布信息。

產(chǎn)品特點：
非接觸式測量：干法測量過程中，樣品無需與液體接觸，避免了濕法測量中可能產(chǎn)生的顆粒團聚、溶解或化學反應等問題，保證了測量結果的準確性。
自動化程度高：全自動激光粒度分析儀集成了的自動化控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)樣品的自動進樣、測量和數(shù)據(jù)分析，大大提高了工作效率。
測量范圍廣：根據(jù)不同的型號和配置，測量范圍可覆蓋從納米級到毫米級的顆粒粒度。
結果準確可靠：采用高精度的激光光源和探測器，結合的算法和數(shù)據(jù)處理技術，確保了測量結果的準確性和可靠性。

產(chǎn)品參數(shù)：
測量原理：全量程激光衍射；
粒徑范圍：0.1um~800um(全量程測試)；
探測系統(tǒng)：76通道均勻交叉及面積補償多方位陣列；
激光器：進口大功率光纖輸出半導體激光器，波長635nm、功率最大20mw；
光學模型：全量程米氏散射理論，包含高濃度多重散射動態(tài)補償技術；
濾波方式：三鏡頭技術，正.反傅里葉變換鏡頭＋濾波鏡頭；
采集主板：16bit，200kps超高速采集主板，全新一代同時采集主板；
濃度范圍：遮光度3%，最高遮光度90%(光學濃度)；
鏡頭：特殊鍍膜工藝處理，光信號透過率>99.7%；
光學對中系統(tǒng)：機械中心＋光學中心雙定位全自動對中系統(tǒng)；
測量時間：典型值<10秒；
測量精度：準確性、重復性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標準樣品)；
測量方式：全自動測量
環(huán)境溫度：0°c~45°C；
環(huán)境濕度：10%~-85%相對濕度(無結凝)；
電源要求：110V~240V(±20V)，5OHz~60Hz；
執(zhí)行標準：GB/T19077-2016/ISO13320:2009；
外觀尺寸：700mm×495mm×300mm；
儀器重量：35kg。

適用范圍：
干法激光粒度分析儀廣泛應用于各種金屬、非金屬粉︰如重鈣、輕鈣、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏土、二氧化硅、石榴石、硅酸錯、氧化錯、氧化鎂、氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛?、各種粉末類樣品。

應用領域：
材料科學：用于研究材料的顆粒大小分布、形貌特征等，為材料的制備和性能優(yōu)化提供重要依據(jù)。
制藥行業(yè)：用于藥物顆粒的粒度分析，確保藥物的質(zhì)量和療效。
食品工業(yè)：用于食品顆粒的粒度檢測，如奶粉、調(diào)味品等，保證產(chǎn)品的口感和品質(zhì)。
環(huán)境科學：用于監(jiān)測水體、大氣中的顆粒物濃度和分布，評估環(huán)境污染狀況。