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非接觸式膜厚測量儀

更新日期:2026-03-10

簡要描述:

非接觸式膜厚測量儀精準(zhǔn)測量,支持20nm超薄膜厚檢測,準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm,滿足精密檢測需求,高速采樣,最高采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測,提升測量效率,寬光譜覆蓋,采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚。

型號:HD-FT50UV點(diǎn)擊量:46

當(dāng)AR眼鏡鍍膜出現(xiàn)0.3納米厚度不均,光學(xué)畸變率將激增40%;當(dāng)鋰電池隔膜厚度波動超過標(biāo)準(zhǔn)值,過充風(fēng)險概率呈指數(shù)級上升。針對精密制造領(lǐng)域的檢測困境,反射膜厚儀給出系統(tǒng)性解決方案:其0.8nm級光學(xué)分辨率可捕捉超薄涂層微觀變化,100次/秒采樣速率匹配高速產(chǎn)線節(jié)拍,IP54防護(hù)等級設(shè)計支持-20℃~60℃寬溫域工作。更關(guān)鍵的是,設(shè)備內(nèi)置的智能膜層建模系統(tǒng),無需復(fù)雜校準(zhǔn)即可完成從OLED蒸鍍到汽車窗膜的200余種材料檢測,將檢測周期從2小時壓縮至8分鐘。

一、產(chǎn)品簡介

非接觸式膜厚測量儀是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測量設(shè)備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,每秒可測100次,重復(fù)測量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

二、應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。

三、測試原理

非接觸式膜厚測量儀基于白光干涉原理工作,光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后,經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產(chǎn)生干涉,干涉信號中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息,設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù),整個系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光,經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號,最終通過上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。
四、產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 精準(zhǔn)測量:支持20nm超薄膜厚檢測,準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm,滿足精密檢測需求;

2. 高速采樣:采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測,提升測量效率;

3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;

4. 強(qiáng)抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法,復(fù)雜環(huán)境下測量穩(wěn)定;

5. 靈活易適配:支持自定義膜結(jié)構(gòu)測量,設(shè)備小巧易安裝,配套軟件及二次開發(fā)包,適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線多場景。

五、技術(shù)參數(shù)

型號HD-FT50UVHD-FT50NIR
建議工作距離非聚焦光束,安裝距離5至10mm安裝側(cè)面出光附加鏡時:34.5mm±2mm;
軸向出光時:55mm±2mm;
測量角度±10°±5°
光斑類型彌散光斑;在10mm安裝距離時,光斑直徑約為4mm;聚焦光斑;約200μm
探頭外徑*長度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
探頭重量190g108g(探頭)、49g(附加鏡)
光源類型氘鹵光源鹵素光源
波長范圍190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
測厚范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)約50nm~50μm(折射率1.5時)
適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向;
VIS-NIR徑向;(標(biāo)配其一)



非接觸式膜厚測量儀


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